网站首页

人工智能P2P分享搜索全网发布信息网站地图标签大全

当前位置:诺佳网 > 电子/半导体 > 测量仪表 >

SiC热特性测试 电源转换效能更上层楼

时间:2018-01-04 17:08

人气:

作者:admin

标签:

导读:SiC热特性测试 电源转换效能更上层楼-宽能带隙半导体元件因电、热、机械等各项性能表现具佳而被业界看好,碳化硅材料的电气特性使其适用于研制高击穿电压元件,不过,应用要求晶...

市场对切换速度、功率、机械应力和热应力耐受度之要求日益提升,而硅元件理论上正在接近性能上限。宽能带隙半导体元件因电、热、机械等各项性能表现具佳而被业界看好,被认为是硅半导体元件的替代技术。

在这些新材料中,相容硅技术制程的碳化硅(SiC)是最有前景的技术。碳化硅材料的电气特性使其适用于研制高击穿电压元件,但是,远高于普通硅元件的制造成本限制了其在中低压元件中的推广应用。在600V电压范围内,硅元件的性能非常好,CP值优于碳化硅元件。不过,应用要求晶片有更高的性能,而硅元件已经达到了极限。

本文评测了主切换采用意法半导体新产品650V SiC MOSFET的直流-直流升压转换器的电热特性,并将SiC碳化硅元件与新一代硅元件做了全面的比较。测试结果证明,新SiC碳化硅切换元件提升了切换性能的标杆,让系统具更高的效能,对市场上现有的系统设计影响较大。

最近几年,人们更加关注环境、效能和污染问题,导致电气效能标准趋严,这不只限于大功率应用,还包括低负载应用。现在,切换频率可以更高,同时切换损耗可以降至更低,本文介绍的650V碳化硅电晶体适用于应用场景。如表1所示,碳化硅的宽能带隙使电力元件具有很多优异的特性。

SiC热特性测试 电源转换效能更上层楼

碳化硅的宽能带隙使电力元件具有很多优异的特性

更高的关键应用可使用掺杂程度更高的超薄裸片,其损耗相较其他晶片低很多。碳化硅热导率较硅元件高出很多,因此,功率损耗散热导致的温降在整个元件上都比较低。因为碳化硅的熔点温度更高,可以工作在400℃范围内,这些特性让人们更加看好碳化硅元件在切换速度、损耗、RDS(on)导通电阻、击穿电压方面的性能表现。事实上,击穿电压高于1,200V的碳化硅元件深受市场欢迎。是否选择超高击穿电压的碳化硅元件,不仅要考虑电气特性,还要考虑碳化硅的制造成本。对于600V电压以下碳化硅产品,以前市面上只有2吋或3吋碳化硅晶圆片,而且生产设备非常昂贵,因此,碳化硅元件的CP值不如硅元件。现在4吋和6吋碳化硅晶圆片十分常见,市场对碳化硅元件需求成长可以让厂商降低制造成本。600V SiC MOSFET开始出现在市面上,具有令人感兴趣的特性,适用于各种应用领域。

温馨提示:以上内容整理于网络,仅供参考,如果对您有帮助,留下您的阅读感言吧!
相关阅读
本类排行
相关标签
本类推荐

CPU | 内存 | 硬盘 | 显卡 | 显示器 | 主板 | 电源 | 键鼠 | 网站地图

Copyright © 2025-2035 诺佳网 版权所有 备案号:赣ICP备2025066733号
本站资料均来源互联网收集整理,作品版权归作者所有,如果侵犯了您的版权,请跟我们联系。

关注微信