边缘光线理论基础

边缘光线理论为扩展光源的二次光学设计奠定了重要的理论基础。    

当扩展光源的发光面有一定的尺寸时，与理想点光源不同，其面光源最边缘发出的光束经过整个光学系统后，最终会落到目标面的边缘处。 而且如此一来可保证面光源内部发出的光束最终可以打到目标面的内部。这样便可以保证目标面光斑形状与光源形状一致。 通过该理论的提出，二次光学设计过程得以优化，使其设计难度大大降低从而提高工作效率。如图所示。

边缘光线理论在实际的二次光学设计中应用十分广泛，由于实际光源不可视为点光源，多为扩展光源。通过对光线的控制，中心光线可以控制目标光斑的最大照度值，通过边缘光线来设计光学系统的照明范围。如图所示。

审核编辑：黄飞