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SiC材料及器件介绍

时间:2023-09-28 16:54

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作者:admin

标签: 功率器件  肖特基  SiC  晶圆 

导读:SiC材料及器件介绍-SiC,作为发展最成熟的宽禁带半导体材料之一,具有禁带宽度宽、临界击穿电场高、热导率高、电子饱和漂移速度高及抗辐射能力强等特点。...

一、SiC材料特征

SiC,作为发展最成熟的宽禁带半导体材料之一,具有禁带宽度宽、临界击穿电场高、热导率高、电子饱和漂移速度高及抗辐射能力强等特点。SiC材料有多种晶型结构,目前常见的有4H、6H和3C等晶型。其中,3C-SiC的临界击穿电场和禁带宽度相对较小,因此不适合用于高压功率器件的制作。

相比于6H-SiC,4H-SiC具有更高的电子载流子迁移率,在功率器件的研究中被广泛应用,现在4inch~6inch的单晶晶圆已经实现了量产,国内8inch的单晶衬底正在开发中。Si和SiC材料的主要基本特征如表1-1所示。

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表 1-1 硅和碳化硅材料的主要特性参数

二、SiC器件

由于SiC材料的优势使得SiC功率器件非常适合于高温、高压、高频、大功率等应用。现如今,已实现商业化的SiC功率器件主要有SiC肖特基二极管(SBD)和SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管MOSFET)。

2.1 SiC SBD

SiC SBD作为单极器件,无少数载流子存储,几乎表现出理想的反向恢复特性,非常适合低开关损耗且高频开关工作应用。如图2-1所示为SiC肖特基二极管的结构示意图,其中SiC JBS和MPS结构为主流产品设计结构,SiC JBS结构可良好折衷其正向导通和反向恢复特性;而SiC MPS在JBS基础上引入PiN结构可提高器件的抗浪涌电流能力。如图2-2所示,1200V 20A SiC MPS可以在不牺牲正向性能的前提下,显著提升器件的正向电流浪涌能力,约为额定电流的11倍。

如图2-3所示为650V 20A Si FRD和650V 20A SiC JBS的反向恢复特性对比,结果发现,SiC JBS表现出较低的反向恢复峰值Irr电流和恢复电荷Qrr。此外,SiC肖特基二极管表现出与温度无关的开关特性,从而改善电路性能的稳定性,提高电力转换系统的可靠性。目前,SiC肖特基二极管主要应用于功率因数校正(PFC)、光伏逆变、电动汽车和不间断电源(UPS)等。

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(a)SBD  

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(b)JBS  

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(c)MPS

图2-1  SiC 肖特基二极管

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图2-2  1200V 20A SiC JBS和SiC MPS性能对比

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图2-3  SiC JBS和Si FRD反向恢复特性对比

2.2 SiC MOSFET

平面栅碳化硅金属氧化物场效应晶体管(SiC MOSFET)具有快速开关和低导通电阻的优点。采用SiC MOSFET,可显著提高系统工作频率、减少电感、电容滤波器和变压器的数量,从而降低系统体积、重量,实现高效、轻量化和小型化的系统需求。目前,SiC MOSFET主要应用于电机驱动、光伏逆变、储能、高压开关电源和OBC等。

如图2-4分别为平面型和沟槽型SiC MOSFET结构示意图,国际上Wolfspeed、ON和ST等主要产品为平面型结构,而Infineon和ROHM主要设计为沟槽型结构,准确地,Infineon为半胞沟槽结构,ROHM为双沟槽结构。相对来说,在相同电流等级下,沟槽型结构的元胞尺寸更小,约为平面型结构的一半,比导通电阻也更小,更适合于制作高频大功率器件。但是由于SiC材料的硬度和脆度问题导致沟槽刻蚀较难,目前国内开发产品主要以平面型为主,不断地减小元胞尺寸、降低比导通电阻、提高功率密度和可靠性。

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  (a)平面型

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(b)沟槽型

图2-4  平面栅SiC MOSFET结构

SiC器件的漂移层电阻比Si器件的要小,不必使用电导率调制,因此SiC MOSFET可同时实现高反向击穿电压和低导通电阻。更重要的是,SiC MOSFET的最大特点是作为单极器件,不会产生IGBT中所见到的拖尾电流,SiC MOSFET的开关速度很快且体二极管反向恢复时间短。

如图2-5所示为1200V 25mΩ SiC MOSFET开关特性及反向恢复特性测试曲线。由开关测试曲线得到,开通和关断时间分别约为60ns和91ns;由反向恢复曲线得知反向峰值电流约为10A,反向恢复时间和电流分别为20ns和120nC。

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(a)开通波形,VDD=800V, ID=30A, RG=10Ω, VGS(on)=18V

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(b)关断波形,VDD=800V, ID=30A, RG=10Ω, VGS(off)=-3V

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(c)体二极管反向恢复波形,VR=800V, IF=20A, diF/dt=1000A/μs

图2-5 1200V 25mΩ SiC MOSFET开关及反向恢复特性测试







审核编辑:刘清

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