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EUV***造成7nm芯片量产停滞不前

时间:2023-06-20 15:41

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作者:admin

标签: 7nm  台积电  光刻机  5nm 

导读:台积电的7纳米工艺产能利用率不如5纳米工艺。5纳米工艺的产能利用率从原来的50%多增加到70%至80%左右,而7纳米工艺的产能利用率也从30%至40%的水平逐步提高至50%左右。...

最近有消息称,在英伟达等公司增加AI芯片生产量的推动下,台积电的先进制程产能利用率大幅提升。但尽管如此,7nm芯片量产依旧停滞不前。

相比之下,台积电的7纳米工艺产能利用率不如5纳米工艺。5纳米工艺的产能利用率从原来的50%多增加到70%至80%左右,而7纳米工艺的产能利用率也从30%至40%的水平逐步提高至50%左右。

这种情况的原因在于制造7纳米芯片所需的关键设备EUV***难以生产。EUV***是制造7纳米芯片的关键工具,具有更高的光刻精度,能够突破传统***的制造极限。中芯国际早在2018年就向全球唯一生产EUV***的厂商ASML订购了一台,但至今尚未交付。

由于DUV***无法满足先进制程芯片的制造需求,中芯国际无法实现7纳米工艺的量产。这是一个极具挑战性的问题,因为全球对EUV***的需求已排满了两年的订单,后续投产周期也需要相当长的时间,预计直到2023年左右才能供货。这意味着中芯国际在EUV***方面的生产计划受到了很大影响。

编辑:黄飞

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