ASML EUV搅局半导体设备供应链 这些厂商压力山大

ASML股票在1月17日上涨了7％，以199.18收盘，因为ASML公布了过去12个月的季度销售情况，为30.7亿美元，实现同比增长53％，超过其预期的25.2亿美元。ASML实现了7.7亿美元的利润，远超出了5.44亿美元的分析目标。

与此同时，Lam Research股票上涨7.7％至205.08，应用材料上涨5.2％至57.34，KLA Tencor上涨5.4％至113.49。

首先，我将先对ASML主宰光刻行业进行介绍；然后，对我的观点——ASML盈利表现良好对Lam Research、应用材料、KLA Tencor是不利的，进行解读。

对于逻辑器件、存储器件等主流IC行业，可以利用不同技术实现10nm以下工艺的光刻设备商只有三家：

荷兰ASML–EUV（极紫外光）光刻

日本尼康–浸没式DUV（深紫外光）光刻

日本佳能–纳米压印光刻（NIL）

最初，这三家企业都是从制造传统光学光刻设备起家，其技术可追溯二十世纪八十年代。随着摩尔定律的演进，它们的产品也在发生变化。如图1所示，有多种技术可用于在晶圆表面上复制光掩模。

2016年，ASML、尼康与佳能在不同行业起到了领导性作用。图2是I-line stepper市场份额情况，I-line stepper可为所有类型光刻工具提供最低分辨率，售价在4~6百万美元。出售的79种工具中，大部分是升级版，因为它们的鼎盛时期在1990年初，但它们仍然被应用于需要低分辨率的应用场景中。